El modelo K575 utiliza una bomba turbo, apoyada por una bomba de vacío de rotacion, y la secuencia completa de vacío se realiza mediante control automático.

El vacío se puede ajustar para adecuarse a las condiciones para el uso con tarjeta de Cromo u otro metal oxidante, o bien con tarjeta de Oro, y el equipo dispone de temporizador para contar con un amplio rango de tiempos de metalización.

El sistema está equipado con un magnetron que incluye un target de 54 mm. ø de cambio rápido.

El cabezal de metalización dispone de enfriamiento Peltier para obtener un recubrimiento de alta calidad y grano fino (no necesita agua).

Los parámetros de metalización pueder ser pre-seleccionados, incluyendo la apertura de la válvula de aguja, que dispone de una válvula electromagnética de apoyo.

La versión de Doble Cabezal (K575DX) dispone de dos cabezales de metalización. Se utilizan para aplicaciones que requieren recubrimientos especiales de dos capas, secuenciales, que se puedan depositar sin romper el vacío de la unidad.

Para el equipo K575DX podría ser necesario una refrigeración adicional con agua, además del sistema Peltier.

CARACTERISTICAS Y VENTAJAS

Características generales:

§        Control completamente automático

§        Cabezal de metalización con refrigeración Peltier

§        Recubrimiento fino (del orden de tamaño de grano 0.5nm Cr)

§        Plataforma con rotación con dispositivo de inclinación suministrada como stantard

§        Deposición de Película Fina (normalmente 5 nm)

§        Cámara de 165 mm. de diámetro

§        Doble Cabezal como opcional

§        Se le puede integrar un Monitor de Grosor de Película

Ventajas:

§        Permite la metalización de grano fino de metales oxidantes como Cromo o Iridio

§        Facil de utilizar

§        No precisa enfriamiento con agua

§        Recubrimientos de alta resolución reproducibles

§        Totalmente adaptable a una amplia variedad de muestras

§        Deposiciones de pelicula con grosor reproducible

§        Sencilla colocación y retirada de las muestras

§        Permite recubrimientos secuenciales sin ruptura de vacío

§        Se puede preseleccionar el grosor de la deposición

Especificaciones Tecnicas del K575X

§        Cámara                             : de vidrio borosilicato 165 mm. ø x 125 mm h

§        Cubierta de protección       : policarbonato

§        Target                               : standard de Cromo 54 mm. ø x 0.2 mm. Grosor

§        Plataforma de muestra       : 60 mm. ø, rotacional, con inclinación

§        Rango de vacío                  : atmosférica a 1 x 10^-5 mbar

§        Vacío de trabajo                : 1 x 10^-3 mbar a 1 x 10^-4 mbar

§        Corriente de deposición      : 0 a 150 mA

§        Rango de deposición          : 0 a 20 nm/min

§        Tiempo de metalizacion      : 0-4 min

§        Bomba turbomolecular       : 60 l/sg (ultimo vacío 1x10^-8 mbar)

§        Gases                              : Argon- 10 psi nominal/ Nitrogeno- 10 psi nominal

§        Alimentación                     : 230V – 50Hz (6 Amp max)

§        Peso                                : 42 kg.