El Limpiador de Plasma 1020 elimina de forma automática y rápida la contaminación orgánica (hidrocarbones) de muestras de microscopia electrónica y portamuestras. Aplica plasma de baja energía y alta frecuencia (HF) que limpia eficazmente la superficie de la muestra sin cambiar su composición ni sus características estructurales. El Modelo 1020 está diseñado para colocar cualquier tipo de portamuestras de todos los TEM comercializados, e incluso limpiar muestras en bruto para realizar SEM o análisis de superficie.
 

Características

• Limpia de forma simultánea muestras TEM y SEM y portamuestras.
   
• Mejora la calidad de imagen y los resultados analíticos
   
• Rápido
   
• Previene la contaminación

• Elimina cualquier contaminación de hidrocarbones

• Sistema de vacío libre de  aceite

• Manejo sencillo
   

• Almacenamiento en vacío limpio

Para obtener un imagen óptima y realizar un microanálisis preciso en microscopia electrónica es imprescindible tener una muestra limpia y bien preparada. Esto es especialmente cierto para los modernos microscopios, que utilizan fuentes de electrones de alto brillo, como los filamentos de LaB6 y emisión de campo (FE). Estos sistemas de alto brillo combinan una pequeña sonda de electrones para microanálisis con una elevada densidad de corriente de haz, obteniéndose una imagen de alta resolución de la muestra, así como los datos analíticos. Sin embargo, los niveles de contaminación de la muestra tienden a incrementarse a medida que disminuye el tamaño de la sonda y aumenta la densidad del haz. Esto tiene una gran importancia en la calidad de la muestra y la limpieza tanto de esta como del portamuestras. El equipo Limpiador por plasma 1020 elimina de forma efectiva la contaminación por hidrocarbones de la mayoría de los muestras de investigación y de los portamuestras.
 
Para analizar de forma eficaz las muestras TEM es esencial preparar muestras sin alterar significativamente su microestructura o composición. Las técnicas actuales de preparación de muestras producen a menudo daños morfológicos, contaminación, o ambos. La contaminación puede también producirse de muchas otras maneras: al tocar inadvertidamente las muestras o los portas, restos de aceite de la bomba de difusión o de un sistema de Ion Milling, contaminación de la columna del microscopio, o la aplicación de adhesivos y/o solventes durante el proceso de preparación. Incluso cuando se extreman los cuidados en la preparación de la muestra, los métodos estándar de limpieza no suponen por lo general un 100% de éxito.
 

Teoría
 

En una plasma de alta frecuencia no en equilibrio los electrones se aceleran a alta velocidad mediante un campo electromagnético oscilante que excita los átomos de gas y forma el plasma. Esto aumenta ligeramente la temperatura del material procesado, generalmente algunos grados por encima de la temperatura ambiente. Los iones de plasma impactan sobre la superficie con energías inferiores a 20 eV. La limpieza se realiza mediante la formación de compuestos gaseosos reactivos que interaccionan químicamente con los materiales de carbono de la muestra y del soporte.
 
Para optimizar la limpieza se recomienda una mezcla del 25% de oxigeno y el 75% de argón. El plasma de oxígeno es muy efectivo para eliminar contaminación con hidrocarbones. El proceso de reacción genera H2O, CO y CO2, que son evacuados por el sistema de vacío. La limpieza completa de muestras altamente contaminadas puede realizarse en 2 minutos o menos. Se pueden utilizar otros gases alternativos para eliminar distintos tipos de contaminación.